半導體等離子清洗機

產品型號：NE-PE60F
性能特點：核心部件采用進口元器件，整機穩(wěn)定性能高
產品用途：半導體器件清洗

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產品介紹
產品參數(shù)

半導體等離子清洗機為低溫低壓射頻等離子清洗設備，其原理是基于真空狀態(tài)下，利用射頻源激發(fā)形成的高壓交變電場將工藝氣體震蕩成等離子體，用等離子體通過化學或物理作用時對工件（生產過程中的電子元器件及其半成品、零部件、基板、印制電路板）表面進行處理，實現(xiàn)分子水平的污漬、沾污去除（一般厚度在3nm～30nm），提高表面活性。其機理主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”，達到去除物體表面污漬的目的，其通常包括無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)、氣相物質被吸附在固體表面、被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子、產物分子解析形成氣相、反應殘余物脫離表面等過程。

半導體封裝等離子清洗機常見應用：

在半導體封裝行業(yè)中，使用等離子清洗技術，目的是增強焊線/焊球的焊接質量及芯片與環(huán)氧樹脂塑封料之間的粘結強度。

封裝工藝直接影響引線框架芯片產品的成品率，而在整個封裝工藝環(huán)節(jié)中出現(xiàn)問題的最大來源就是芯片與引線框架上的顆粒污染物、氧化物及環(huán)氧樹脂等污染物。針對這些不同污染物出現(xiàn)環(huán)節(jié)的不同，在不同的工序前可增加不同的等離子清洗工藝，在半導體封裝中，等離子清洗技術越來越多地用于倒裝填料前基板填料區(qū)域的活化清洗、鍵合前鍵合焊盤的去污清洗、塑封包封前基板表面的活化清洗等。

半導體封裝等離子清洗工藝位置

晶圓清洗：等離子清除殘留光刻膠。
封裝點銀膠前：等離子清洗使工件表面粗糙度及親水性大大提高，有利于銀膠平鋪及芯片粘貼，同時可大大節(jié)省銀膠的使用量，降低成本。
壓焊前清洗:等離子清潔焊盤，可以改善焊接條件，提高焊線可靠性及良率。
塑封：等離子清洗提高塑封料與產品粘結的可靠性，減少分層風險。
BGA、PFC基板清洗：在貼裝前對基板上的焊盤進行等離子體表面清洗，可使焊盤表面達到清潔、粗化和活化的效果，極大地提高了貼裝的一次成功率。
管座管帽的清洗：管座管帽若存放時間較長，表面會有陳跡且可能有污染，先對管座管帽進行等離子體清洗，去除污染，然后封帽，可顯著提高封帽合格率。
引線框架清洗：經等離子清洗可達到引線框架表面超凈化和活化的效果，提高芯片的粘接質量。
引線框架等離子清洗

半導體等離子清洗機完全可以實現(xiàn)對半導體器件的干凈清洗，清洗后的產品表面水滴角會明顯減小，能有效去除其表面的污染物和顆粒物，能夠有效提高引線鍵合的強度和改善封裝時的分層現(xiàn)象。最大的優(yōu)點是可實現(xiàn)各種尺寸和各種結構產品的干凈清洗，無廢液、無污染源產生。

型號	NE-PE65F
腔體材質	不銹鋼
功率	0-600W
等離子發(fā)生器頻率	13.56MHz
控制方式	10英寸觸摸屏（自動+手動模式）
極限真空	2Pa
氣體通道	3路（氧氣、氬氣等）
設備功率	≤3kW
真空泵	干泵
絕緣	陶瓷
鈑金	鏡面不銹鋼
工作真空度	10～150Pa
反應倉尺寸（WHD）	400(W)450(D)370(H)mm
外形尺寸（WHD）	905mm(L)×1030mm(W) ×1735 mm(H)
電源	AC380V/50Hz

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半導體等離子清洗機

半導體封裝等離子清洗機常見應用：

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