三
近年來(lái)，常壓等離子清洗技術(shù)也得到迅速的發(fā)展，相對(duì)于低壓等離子清洗技術(shù)，它無(wú)需使用真空泵，使得清洗過(guò)程所需的時(shí)間更短，價(jià)格更為低廉，效率更高。在大氣常壓等離子體清洗工藝當(dāng)中，影響清洗效率的參數(shù)主要有以下幾個(gè)方面：...
2022-06-10
采用Ar和H2的混合氣體對(duì)引線框架表面進(jìn)行等離子清洗，可以有效的去除表面的雜質(zhì)沾污、氧化層等，從而提高銀原子和銅原子活性，大幅提高焊線與引線框架的結(jié)合強(qiáng)度，提高產(chǎn)品良率，在實(shí)際生產(chǎn)中，等離子清洗已成為銅線工藝的必須工序。...
2022-06-09
等離子體處理為PMMA表面引入了C-N、C-O和O=C-O等親水官能團(tuán)，這些含氮、含氧官能團(tuán)與水分子中的游離H形成弱氫鍵，是表面親水性增加的主要原因。...
2022-06-09
大氣壓輝光放電等離子體中存在著大量的、種類繁多的活性粒子,易于和所接觸的材料表面發(fā)生反應(yīng),因此它適于用來(lái)對(duì)材料表面進(jìn)行處理。與電暈放電和介質(zhì)阻擋放電相比,它產(chǎn)生的放電更為均勻、柔和不會(huì)產(chǎn)生局部過(guò)熱。...
2022-06-09
等離子清洗技術(shù)在航空航天制造業(yè)中鋁合金表面涂裝前處理 、 電連接器涂膠前處理 、 復(fù)合材料表面處理和芳綸制件表面處理等應(yīng)用。解決了傳統(tǒng)濕法清洗工藝中大量消耗水與化學(xué)品的問(wèn)題，綠色環(huán)保，安全健康。 ...
2022-06-08
等離子體是物質(zhì)存在的第四種狀態(tài)，其本質(zhì)是部分離子化了的氣體，由電子、離子、活潑自由基、分子四種形態(tài)組成。等離子處理技術(shù)廣泛應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域，根據(jù)其應(yīng)用的領(lǐng)域的不同，等離子處理所選用的氣體也不同，在HDI板金屬化前處理實(shí)驗(yàn)中選用等離子清洗，所用氣體為CF4和O2。...
2022-06-07
等離子清洗機(jī)原理是兩個(gè)電極之間形成高頻交變電場(chǎng)，用真空泵在裝置的密閉容器中實(shí)現(xiàn)一定的真空度隨著氣體越來(lái)越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也越來(lái)越長(zhǎng)，區(qū)域內(nèi)氣體在交變電場(chǎng)的激蕩下，形成等離子體。經(jīng)常有客戶碰到等離子清洗機(jī)不輝光的情況，下面一起來(lái)了解下等離子清洗機(jī)不輝光的可能原因及其解決辦法。...
2022-06-06
根據(jù)等離子清洗的原理及工藝特點(diǎn)，分析知等離子清洗機(jī)主要清洗關(guān)鍵工藝參數(shù)包括清洗氣體種類、清洗壓力、射頻功率、清洗時(shí)間等。...
2022-06-02
微波頻率相對(duì)于射頻有兩個(gè)決定性優(yōu)勢(shì)，其一是離子濃度最高,在微波等離子里的反應(yīng)微粒數(shù)量要遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于在射頻等離子里的反應(yīng)等離子數(shù)量，這會(huì)使反應(yīng)速度更快，反應(yīng)時(shí)間更短。...
2022-06-02
微波等離子清洗具有激發(fā)頻率高、 自偏壓小、 離子動(dòng)能小、 離子濃度高、 化學(xué)反應(yīng)強(qiáng)等特點(diǎn)，可以有效避免靜電損傷，微波等離子清洗技術(shù)在諸多領(lǐng)域已經(jīng)得到廣泛應(yīng)用，在許多精密制造行業(yè)微波等離子清洗機(jī)已經(jīng)成為必備設(shè)備。...
2022-06-02
等離子清洗機(jī)產(chǎn)生的氣體對(duì)人體有沒(méi)有傷害，主要看通入的是反應(yīng)性氣體還是非反應(yīng)性氣體，如果是非反應(yīng)性氣體，那么就不會(huì)產(chǎn)生任何危害，如氬氣等。如果是反應(yīng)性氣體，就要看這種反應(yīng)性氣體反應(yīng)后生成的氣體是哪種成分，如果是生成二氧化碳和水，那么對(duì)于人體就沒(méi)有任何危害，如果通入的氣體本身是腐蝕性氣體，那么生成的揮發(fā)性氣體也會(huì)對(duì)人體有一定的危害如CF4等，需要注意對(duì)生成的尾氣進(jìn)行處理。不要直接在密閉空間直接排放。...
2022-06-01
微波等離子清洗機(jī)總體結(jié)構(gòu)分為五個(gè)部分：設(shè)備主體、真空系統(tǒng)、微波放電系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和供氣系統(tǒng)。其清洗過(guò)程是：在真空腔內(nèi)壓力到達(dá)一定范圍時(shí)充入工藝氣體,當(dāng)腔內(nèi)壓力為動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，利用微波源振蕩產(chǎn)生的高頻交變電磁場(chǎng)將氧、氬、氫等工藝氣體電離，生成等離子體，活性等離子體對(duì)被清洗物進(jìn)行物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)雙重作用，使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過(guò)抽真空排出，而達(dá)到清洗目的。...
2022-06-01
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